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請問真空電鍍加工的方法是什麽?
真空電鍍加工是真空(kōng)應用中的一個大分支,在光學、電子學、理化儀(yí)器(qì)、包裝(zhuāng)、機械以及(jí)表麵處理技術等眾多方麵有著十分(fèn)廣泛的應用。為了讓大家更詳細的了解真空鍍膜的應(yīng)用,今天小編詳細為大家(jiā)介紹真(zhēn)空電(diàn)鍍加工的主要幾(jǐ)種方法,希望對大家有用(yòng)!
真空(kōng)電鍍應用,簡單地理解就是在真空環境下,利用蒸鍍、濺射以及隨後凝結的辦(bàn)法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上(shàng)金屬薄膜或者是覆蓋層。相對於傳統電鍍方式,真空電鍍應(yīng)用屬於一種幹式電鍍,它的主要方法包括以下幾種:
真空蒸鍍。其原理是在真空條(tiáo)件下,用蒸發器加熱帶(dài)蒸發物質,使其氣化或升華,蒸發離子流(liú)直接射向(xiàng)基片,並在(zài)基(jī)片(piàn)上沉積析出固態薄膜的技(jì)術。
濺射(shè)鍍膜(mó)。濺射鍍膜是真(zhēn)空條件下,在陰極接上2000V高壓電(diàn),激發輝(huī)光(guāng)放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使(shǐ)其射出原子,濺(jiàn)射(shè)出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜(mó)層。
離子鍍膜。即(jí)幹式螺杆真空泵廠家(jiā)已經介紹過(guò)的真空(kōng)離子鍍膜。它是在上麵(miàn)兩種真空鍍膜技術基礎上發展而來的,因此兼有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被(bèi)蒸發(fā)物質(膜材)部分離化,並在離(lí)子轟擊下,將蒸發物或其反應物沉積在基(jī)片表麵。在膜的(de)形成過程中,基片(piàn)始終受到高能粒子的轟擊,十分清潔。
真空卷繞鍍膜。真空卷繞鍍(dù)膜(mó)是(shì)一種利用物理氣相(xiàng)沉積的方法在柔(róu)性基體上連續鍍膜的技術,以實現柔性基體的(de)一些功能性、裝飾性屬性(xìng)。
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